‘2016 차세대 리소그래피 학술대회’가 4월 7일부터 이틀간 서울 코엑스에서 국내 최고의 반도체 리소그래피 및 인쇄전자분야 석학과 산업체 전문가 등 300명이 모인 가운데 열렸다. 2013년부터 시작된 대회는 반도체 및 디스플레이 리소그래피 분야와 검사 계측(Metrology and Inspection, MI) 분야의 전문 학술대회로 올해는 인쇄전자 분야로까지 영역을 확대했다. 이 대회의 특징은 산업체 전문가가 대거 참여해 진정한 산학연 협력을 위한 교류의 장을 펼치는데 있다. 리소그래피는 반도체, 디스플레이, 인쇄전자에서 핵심공정 기술로서 나노미터 (성인 머리카락의 10만분의 1)크기의 반도체 선폭에서 수 mm크기를 그리는 기술이다.
이번 학술대회에서는 100개(기조연설 4개 포함)의 학술논문이 발표됐고 이중 한국표준과학연구원 진종한 박사가 제출한 ‘3D 반도체 측정 기술’이 리소그래피 분야 세계 1위 기업인 ASML이 주는 ‘신진학술상’을 수상했다. 대회 조직위원장 이승걸 교수(인하대)는 “앞으로 학술대회를 반도체, 디스플레이, 인쇄전자 분야뿐만 아니라 패키징, MEMS 센서, 3D 프린트 및 차세대 패터닝기술 분야 등으로 확장해 이 분야를 선도하는 국제적 학술대회로 발전시키는데 노력을 다 할 것” 이라고 향후 계획을 밝혔다.
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