삼성전자 올해 시설투자 31.8조원…전년보다 27%↓

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  • 입력 2018년 10월 31일 09시 06분


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“반도체 시설투자 일부 완료 영향”

삼성전자 평택 반도체 단지 1라인. (삼성전자 제공) © News1
삼성전자 평택 반도체 단지 1라인. (삼성전자 제공) © News1
지난해 파운드리(반도체 수탁생산) 증설을 끝낸 삼성전자가 올해는 시설투자를 줄인다. 올해 투자 규모는 31조8000억원으로 전년(43조4000억원)과 견주면 약 27% 줄어든 규모다. 사업 부문별로는 올해 반도체 24조9000억원, 디스플레이 3조7000억원 투자를 계획하고 있다.

삼성전자는 31일 3분기 실적발표 직후 “올해 투자는 전년대비 감소할 것으로 예상된다”고 밝혔다. 반도체 사업의 대규모 설비투자가 마무리된 영향이다.

삼성전자는 “메모리 반도체의 경우 평택에 생산 라인을 증설해 전년 대비 소폭 시설투자가 증가했으나 파운드리는 지난해 10나노 공정 관련 증설이 완료됐다”고 설명했다. 디스플레이도 지난해 플렉시블 OLED(유기발광다이오드) 패널 생산량 증설 투자가 집중돼 올해 시설투자가 감소했다.

지난 3분기 시설투자는 5조6000억원으로 집계됐다. 사업 부문별로는 반도체 4조5000억원, 디스플레이 5000억원을 집행했다. 올해 3분기까지 누계로는 22조3000억원이 투입됐다.

(서울=뉴스1)


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