韓-中서 동일한 특허 출원땐 우선 심사

양국 특허공동심사 양해각서 체결… 디자인 우선권 서류는 온라인 교환

특허청은 한국과 중국에 동시 출원된 특허에 대해서는 양국 심사관이 함께 심사해 신속히 처리하기로 했다고 21일 밝혔다.

성윤모 특허청장은 17일 중국 항저우(杭州)에서 선창위(申長雨) 중국 국가지식재산권국장과 특허공동심사(CSP) 양해각서를 체결했다. 두 나라 중앙정부 간 양해각서 체결은 사드(THAAD·고고도미사일방어체계) 갈등 이후 처음이다.

양해각서에 따르면 한중 특허 당국은 동일한 특허가 출원되면 선행기술정보를 공유하고 다른 것보다 우선 심사한다. CSP는 세계에서 한국과 미국, 미국과 일본 간에만 이뤄졌다. 중국은 한국과 처음으로 CSP 양해각서를 맺었다.

두 특허 당국은 디자인 우선권의 경우 서류를 온라인으로 교환하는 방안도 조속히 추진하기로 했다. 그동안 우편으로 서류를 보내야 해 시간과 비용 부담이 컸다. 지난해 한국에서 중국으로 출원된 디자인 우선권은 2135건이다.

성 청장은 “중국은 세계 최대 상품시장이자 지식재산권 최다 출원국이다. 이번 협약은 우리 기업의 중국 진출에 큰 도움이 될 것으로 기대한다”고 강조했다.

대전=지명훈 기자 mhjee@donga.com