‘반도체 기술 中유출’에 징역 7년… 역대 최고 형량

법원 “삼성측 피해 어마어마”
삼성전자 前부장에 1심 중형

반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의로 기소된 전직 삼성전자 부장이 1심에서 징역 7년의 중형을 선고받았다. 기술 유출 범죄에 대한 1심 판결 중 역대 가장 무거운 형량이다.

서울중앙지법 형사합의25부(부장판사 지귀연)는 19일 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 혐의를 받는 김모 씨에 대해 징역 7년과 벌금 2억 원을 선고하고 법정 구속했다.

김 씨와 공모한 혐의를 받는 삼성전자 협력업체 전 직원 방모 씨는 징역 2년 6개월을 선고받았다.

재판부는 “김 씨는 국가 핵심 기술인 18나노 D램 반도체 공정 관련 정보를 유출해 이를 사용하는 단계에 이르렀다”며 “중국 업체가 이를 이용해 제품 양산에 성공하는 등 삼성전자가 입은 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상된다”고 설명했다. 이어 “건전한 경쟁과 질서를 심각하게 저해하고, 실제 대한민국 국가 산업경제에 악영향을 줄 수 있는 범죄로 피해가 가볍지 않다”고 지적했다.

삼성전자에서 20년 넘게 근무한 김 씨는 2016년 중국으로 이직하는 과정에서 18나노 D램 반도체 공정 정보 등 7개 자료를 유출해 중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)의 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 지난해 1월 재판에 넘겨졌다. CXMT는 중국 유일의 D램 생산 업체다. 검찰은 CXMT가 김 씨에게서 넘겨받은 정보 덕분에 반도체 기술장벽을 뛰어넘었다고 보고 징역 20년을 구형했다.

재판부는 김 씨 일당이 유출한 반도체 장비 납품업체 유진테크의 자료 등은 산업기술보호법에 해당하는 기술 관련이 아니라고 보고 일부 무죄 판단을 내렸다. 또한 이들에게 벌금형을 초과하는 형사처벌 전력이 없고, 기술 유출만이 중국 회사의 급속한 성장의 이유로는 볼 수 없는 점 등을 고려했다고 양형 이유를 밝혔다.

김 씨는 선고에 앞서 최후 진술에서 “일반 기술이라 생각했고 투자자들에게 홍보 자료로 사용하기로 해 자료를 다 함께 준비한 것”이라며 “이런 일이 없었으면 마음 편하게 살았을 후배들과 가족들에게 진심으로 미안하다”고 말했다.