반도체 핵심기술 중국에 유출…SK하이닉스 협력업체 무더기 ‘유죄’

서울 서초동 서울중앙지방법원 모습. 2021.7.19/뉴스1

SK하이닉스의 D램 반도체 핵심 기술을 중국 경쟁 업체에 유출한 장비업체 관계자에 무더기로 유죄가 선고됐다.

서울중앙지법 형사합의25-3부(부장판사 지귀연 박정길 박정제)는 13일 산업기술보호법·부정경쟁방지법 위반(영업비밀 누설 등) 혐의로 기소된 장비업체 A사 부사장 B씨(59)에 징역 1년을 선고했다.

함께 기소된 A사 법인에는 벌금 4억원을 선고했다. 같은 혐의로 재판에 넘겨진 나머지 직원 7명에는 징역 8개월에서 1년6개월의 집행유예와 벌금형 판결을 내렸다.

A사와 임직원들은 SK하이닉스와 협력 관계 과정에서 파악한 ‘HKMG’(High-K Metal Gate) 반도체 제조기술과 세정 레시피 등 국가핵심기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년 8월~2020년 6월까지 중국 반도체 업체로 유출한 혐의로 기소됐다.

‘HKMG’는 D램 반도체 성능 향상을 위해 전도율 높은 신소재를 사용한 제조공정 기술이다.

이들은 삼성전자의 반도체 장비업체 세메스의 기술을 경쟁업체 전직 직원 등을 통해 몰래 취득한 후 중국 수출용 장비 개발에 기술을 사용하게 한 혐의도 받는다.

재판부는 “국가핵심기술인 HKMG 관련 공정 기술과 세메스(삼성전자 자회사) 정보를 몰래 취득해 세정 장비를 개발한 것도 공정한 경쟁질서를 위협한다”며 “레시피(반도체 공정 과정)를 해외로 유출한 범행은 죄질이 상당히 좋지 않다”고 지적했다.

레시피와 HKMG, 세메스 정보의 국외 유출 혐의는 모두 유죄로 인정됐다.

A사 측은 앞서 “레시피는 공동개발 결과물”이라고 주장했으나 재판부는 “하이닉스 기술은 A사가 평소 몰래 수집하거나 USB에 넣어 취득했다”며 받아들이지 않았다.

다만 A사가 중국 업체에 넘겨준 세정 장비 사양 정보에 대해서는 “비밀유지 위반이 아니다”며 무죄 판결이 내려졌다.

재판부는 “개인정보보호법과 위법성에 대한 인식이 약했던 것으로 보이고, 일반 산업 스파이와 달리 회사 업무로 생각해 범행을 저지른 것으로 보이는 부분을 참작했다”고 설명했다.

검찰은 앞서 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국 반도체 업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 수사에 착수해 2021년 1월 이들을 기소했다.

(서울=뉴스1)