삼성전자, 中 시안 반도체공장 12일 첫 삽

삼성전자가 12일 중국 산시(陝西) 성 시안(西安) 시에서 낸드플래시를 생산하는 반도체 공장의 첫 삽을 뜬다.

이 회사의 해외 반도체 공장 건설은 1996년 미국 텍사스 주 오스틴에 이어 두 번째다.

이날 행사에는 권오현 삼성전자 부회장을 비롯해 전동수 메모리사업부 부장(사장), 장원기 중국삼성 사장 등 삼성 경영진과 중국 정부 관계자 등이 참석할 예정이다.

시안 삼성 반도체 공장은 약 38만 m² 규모로, 삼성전자는 단계적으로 총 70억 달러(약 7조8000억 원)를 투자하기로 했다. 시안 공장은 내년 말 가동을 시작해 2014년부터 본격적으로 10나노급 낸드플래시를 생산할 계획이다.

삼성전자가 시안을 중국 진출의 거점으로 정한 이유는 주변에 주요 고객사와 글로벌 정보기술(IT) 기업의 생산·연구거점이 밀집돼 있고 시안교통대, 시안전자과기대 등 수준 높은 대학도 많아 우수 인력을 영입하는 데도 유리하다는 판단이 작용한 것으로 알려졌다.

정지영 기자 jjy2011@donga.com