“한국에서 인정받은 특허 美서도 신속히 처리되게”

한국 기업이 한국에서 받은 특허를 활용해 미국 특허를 손쉽게 받을 수 있는 길이 열릴 것으로 전망된다.

한미 양국은 이르면 다음 달 특허 업무분야에서 포괄적인 양자협력 방안을 담은 양해각서(MOU)를 체결하기로 했다. MOU가 체결되면 양국은 동일한 특허 출원 양식을 사용하고 심사기준을 통일하는 한편 특허 데이터베이스(DB)를 공유하는 등 특허 관련 협력이 대폭 강화된다.

또 현재 시범 운영 중인 한미 특허심사 하이웨이를 정식으로 실시해 한국에서 심사를 통과한 특허권은 미국에서 간소한 절차를 거쳐 신속하게 심사하도록 할 예정이다.

존 달 미국 특허청 차장은 21일 본보와의 단독 인터뷰에서 “양국은 그동안 축적한 특허 관련 정보를 교환하고 양국 특허청의 특허업무 처리능력의 향상을 위해 포괄적 업무협력을 추진한다는 내용의 MOU를 체결하기로 했다”고 밝혔다.

이 MOU에 따르면 양국은 구체적 양자협력 분야로 △특허 출원 양식 통일 △표준분류시스템 통합 △특허 DB 공유 △특허심사관 등 인적교류 활성화 등 8개 사업을 선정했다.

특허심사 결과 상호활용과 DB 공유 등이 이뤄지면 한국 기업이 미국에서 특허를 받는 기간이 크게 단축된다.

워싱턴=하태원 특파원 triplets@donga.com

차지완 기자 cha@donga.com