[과학]심텍, 세계 최초로 상온에서 플라즈마발생 기술 개발

  • 입력 2001년 4월 16일 13시 59분


심텍(대표 전세호)은 미국의 플라즈미온사와 공동으로 반도체용PCB(인쇄회로기판) 업계에서는 세계 최초로 상온 상압조건에서 플라즈마를 발생, PCB를 세척할 수 있는 기술을 개발해 특허출원했다고 16일 밝혔다.

심텍이 특허출원한 기술은 진공상태에서만 플라즈마를 발생시킬 수 있었던 종전의 기술과는 달리 작업장과 똑같은 일반공기중에서도 플라즈마를 만들어 PCB세척에 드는 시간과 비용을 획기적으로 줄일수 있도록 개선한 것.

심텍은 이번 기술개발을 기존의 공정에 직접 적용함으로써 획기적인 품질향상과 수율향상은 물론 폐수가 발생하지 않아 별도의 폐수처리 설비를 설치할 필요가 없어 비용을 크게 절감할 수 있게 됐다고 설명했다. 문의 02-3218-6261

김광현 <동아닷컴 기자>kkh@donga.com

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