포토레지스트 국산화 모색 학술대회 “EUV 가능성 없다 할때 日에선 …”

지난 21일부터 23일까지 인천 송도 쉐라톤 호텔에서 열린 ‘2019 차세대 리소그래피 학술대회’에서 참석자들이 포토 레지스트 국산화에 대한 토론을 하고 있다. 리소그래피 학술대회 제공

반도체 핵심 소재 가운데 하나인 포토 레지스트 국산화 모색을 위한 ‘2019 차세대 리소그래피 학술대회’가 지난 21일 인천 송도 쉐라톤 호텔에서 열렸다. ‘포토 레지스트 국산화의 어제, 오늘, 그리고 내일’ 이라는 주제로 열린 패널 토론에서는 반도체, 디스플레이 소재, 부품의 공급 이슈와 국산화 방안 등이 제시됐다.

토론에서 김상옥 KAIST 석좌 교수(신소재 공학)는 “일본에서는 포트 폴리머 컨퍼런스가 30년 이상 지속적으로 개최돼 왔다. 수년전 EUV(극자외선공정) 기술이 가능성이 없다고 할 당시에도 일본에서는 EUV 레지스트 소재 개발이 진행됐다. 기초연구와 원천연구를 위한 학연산 공동 연구가 활성화 돼 있다. 한국은 이런 부분이 취약하다”고 지적했다. 소재를 활용하는 장비 기술의 중요성도 언급됐다. 정성욱 SK 하이닉스 펠로우는 “반도체 패턴 크기가 미세화 되면서 소재의 중요성도 높아지고 있다”며 “원재료를 개발할 때 미세 패턴의 크기, 변형 및 불순물 정도 등을 측정, 검사하는 MI(Metrology and Inspection) 장비기술도 함께 이뤄져야 한다”고 말했다. 백기호 미국 D2S 부사장은 “지금 반도체 산업에서 사용하고 있는 포토 레지스트의 경우 10년 이상의 개발기간이 소요됐다. 한국도 EUV 레지스트를 위한 정부의 투자가 필요한 시점”이라고 말했다.

김호섭 학술대회 조직위원장(선문대 디스플레이반도체공학과 교수)은 반도체 산업에 학연산 컨소시엄이 꼭 필요한 이유로 “우수인력 양성을 바탕으로 기술 우위를 점하는 데 바탕이 되기 때문”이라고 설명했다. 21일부터 23일까지 열린 학술대회에서는 최근 이슈가 되고 있는 반도체 장비, 부품, 소재에 대한 전문 학술 논문 80여 편이 발표됐다.

이종승 기자 urisesang@donga.com