화웨이 “ASML 장비 없이 1.4나노 생산”… 韓 맹추격
중국 화웨이가 미국의 대중 반도체 수출 통제의 핵심인 극자외선(EUV) 노광 장비 없이 2031년까지 1.4nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m) 칩을 생산하겠다고 밝혔다. 미국의 제재를 우회해 첨단 반도체 자립을 이루겠다는 선언으로, 계획이 현실화될 경우 삼성전자와 대만 TSMC가…
- 2026-05-27
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중국 화웨이가 미국의 대중 반도체 수출 통제의 핵심인 극자외선(EUV) 노광 장비 없이 2031년까지 1.4nm(나노미터·1nm는 10억분의 1m) 칩을 생산하겠다고 밝혔다. 미국의 제재를 우회해 첨단 반도체 자립을 이루겠다는 선언으로, 계획이 현실화될 경우 삼성전자와 대만 TSMC가…