爆増する超格差技術の奪取、高い「法律の壁」なしには防げない

昨年、韓国の半導体技術を海外に持ち出そうとして摘発された件数が１３件で過去最多だったという。輸出の約２０％を占める核心産業の先端技術を奪取しようとする試みがそれだけ多くなったということだ。国内企業で働いていた人が、技術を盗んで中国などに転職するケースが多い。売国的な「産業スパイ」に対する処罰強化が急務だという指摘が出る理由だ。

年間１件程度だった半導体技術の海外流出は、２０１９～２１年に年間３～６件に増え、一昨年は９件、昨年は１３件まで増加した。昨年まで６年間の摘発件数９６件のうち、半導体が３８件で最も多く、ディスプレイ、自動車、二次電池など他産業の流出事例も増えている。サムスン電子の元部長クラスが、中国企業に転職して１８ナノＤＲＡＭの工程情報を渡したことや、大宇（テウ）造船海洋（現ハンファオーシャン）の元職員が韓国型潜水艦の設計図面を台湾に渡したことは、当該企業に被害を与えるだけでなく、国家安全保障まで脅かす深刻な脅威だ。

現行の産業技術保護法は、国外に技術を流出した者は「１５年以下の懲役または１５年以下の罰金」、国家核心技術を持ち出した場合には、「３年以上の懲役と１５億ウォン以下の罰金」で処罰できるよう定めている。しかし、最高裁の量刑基準は最高刑より大幅に低い懲役１～６年にすぎず、それすら執行猶予で終わることが多い。深刻な被害を引き起こした重大犯罪の処罰としては、あまりにも低い水準だ。

このため、国会は産業技術保護法の改正を議論している。産業スパイに最大６５億ウォンの罰金を科し、賠償限度も損害額の３倍から５倍に引き上げる内容が含まれている。しかし、産業スパイをスパイ罪に準ずる犯罪とし、７年以上の懲役刑を科す案は議論の末、除外された。さらに、情報提供がなければ摘発が難しい産業スパイ犯罪の特性を考慮して情報提供者の免責を定めた項目を設けたが、これをめぐって与野党が対立し、改正案の可否さえ不透明な状況だ。

ディスプレイなど、これまで韓国経済を牽引してきた主力産業は、すでに核心技術や人材が中国に流出し、超格差競争力と技術主導権を失っている。最近発生する核心技術の流出による被害規模は、１件当たり数兆ウォン単位で爆発的に増加している。米国をはじめとする先進国は技術流出を防ぐために法と制度の高い障壁を築いているが、韓国企業は裁判所と国会の鈍い対応のために、莫大な投資で開発した先端技術を目の前で盗まれている。