半導体技術流出が過去最多、最高裁量刑委員会が処罰強化を議論

昨年、韓国内の半導体技術に対する海外流出の摘発件数が過去最多を記録したことが分かった。最高裁量刑委員会は、技術流出犯罪に対する処罰を強化することを議論し、今年３月に最終決定を下す方針だ。

８日、「韓国の希望」の梁香子（ヤン・ヒャンジャ）議員室によると、国家情報院が昨年摘発した半導体技術の海外流出事件は１３件で過去最多だった。２０２２年の９件より４４％（４件）増加した。最近、半導体の海外技術流出は１６～１８年までは毎年１件摘発されたが、１９年３件、２０年６件など増加傾向にある。世界的に半導体競争が激化し、国内技術に対する海外の政府や企業による奪取の動きが増えたことを受け、韓国の捜査機関が積極的に摘発に乗り出した結果とみられる。

昨年摘発された事件の多くが、過去数年前に発生したことが分かった。３日、サムスン電子の部長だったキム氏が拘束起訴された事件も、１６年に発生した。キム氏は１８ナノＤＲＡＭの工程情報を中国のＣＸＭＴ（チャンシンメモリーテクノロジーズ）に渡した疑いを受けている。

技術流出は半導体だけでなく、ディスプレイ、二次電池、自動車、造船など韓国の主力産業全般に及んでおり、国家安全保障や経済に脅威となっている。最近、慶尚南道（キョンサンナムド）警察庁産業技術安保捜査隊が大宇（テウ）造船海洋（現・ハンファオーシャン）の元職員２人に対し、潜水艦の設計図面を盗んだ疑いで捜査を進めていることが確認された。

技術流出が絶えない主な原因の一つが、「技術流出で得る利益が摘発時の損失よりはるかに大きい」という点だ。最高裁量刑委員会は８日、定期会議を開き、技術流出犯罪と関連して、裁判所の判決の指針となる量刑基準の引き上げ範囲などを議論した。国家の核心技術の流出に対する法定刑は３年以上の懲役だが、量刑基準は１年～３年６ヵ月で法定刑より低い。このため、産業通商資源部は、量刑基準を少なくとも３年６ヵ月から５年に引き上げなければならないという意見を量刑委員会に提示した。

梁氏は、「技術流出は計画的かつ秘密裏に行われる犯行であるため、今回明らかになった事件は氷山の一角だろう」とし、「流出者を厳格に処罰し、予防のためのシステムも徹底しなければならない」と強調した。


パク・ヒョンイク記者　チャン・ウンジ記者 beepark@donga.com