Go to contents

検察、半導体のコア技術を中国に渡した容疑の6人を起訴

検察、半導体のコア技術を中国に渡した容疑の6人を起訴

Posted January. 27, 2023 08:26,   

Updated January. 27, 2023 08:26

한국어

国のコア技術である半導体ウェハー研磨(CMP)技術などを中国に流出した容疑で、韓国国内の半導体大手企業の元職員など6人が裁判にかけられた。

特許庁技術デザイン特別司法警察(技術警察)と大田(テジョン)地方検察庁は26日、産業技術保護法および不正競争防止法違反の容疑でA氏(55)ら3人を拘束起訴し、3人を在宅起訴したと発表した。

特許庁によると、A容疑者はコンピューターと業務用携帯電話などで会社の内部網にアクセスし、半導体関連の機密資料を閲覧し、これを個人の携帯電話で撮影して中国企業に流出した容疑が持たれている。A容疑者が渡した資料には、半導体のウェハー研磨関連先端技術と営業秘密が多数含まれているという。

主犯であるA容疑者は、2018年に役員昇進から脱落すると、2019年6月に中国企業と半導体ウェハー研磨関連事業を共にすることを約束し、会社に引き続き勤めながらメッセンジャーなどを通じて中国企業の生産設備の構築および事業管理を支援したことが取り調べでわかった。

彼は、他の企業所属の研究員のB氏(52、拘束)とC氏(42、拘束)、D氏(35、在宅起訴)の3人を2019年9月から中国企業に副社長・チーム長・チーム員級でそれぞれ入社させた。その後、自分も2020年5月に社長級に転職した。

技術警察は、A容疑者が所属していた大企業のほか、他の企業2社の営業秘密も流出したものと把握している。被害を受けた企業3社のうち、最も規模の小さい企業の被害額だけでも1000億ウォン台に上るという。特許庁の関係者は、「各企業は、具体的な被害額を明らかにすることを避けている」と伝えた。

被害を受けた3社は、半導体の素材部品を製造したりメモリ半導体を製造するコスピ・コスダック上場企業で、これらの企業の時価総額の合計は66兆ウォンに達する。


池明勳 mhjee@donga.com