인텔은 16일(현지시간) 미국 캘리포니아주 새너제이에서 열리고 있는 개발자회의(IDF)에서 2005년 회로 선폭이 65nm인 반도체를 양산하고 2011년에는 선폭 22nm급 반도체를 개발할 계획이라고 밝혔다.
폴 오텔리니 인텔 사장은 “이 계획이 실현되면 반도체에 내장되는 트랜지스터 한 개의 크기가 DNA 분자 한 개보다 작아진다”고 말했다.
그는 앞으로 40년간은 반도체 설계 기술의 발전 속도가 느려지지 않아 반도체 집적도가 18개월마다 2배로 증가한다는 무어의 법칙은 계속 유지될 것으로 전망했다.
신연수기자 ysshin@donga.com