韩国科学技术院(KAIST)的知识产权管理公司KAIST IP，于上月29日(当地时间)向美国得克萨斯州联邦法院对三星电子美国法人及格罗方德(GF)、高通(Qualcomm)等3家企业提起要求对方支付半导体技术专利使用费的“专利侵害诉讼”。KAIST方面主张表示，以上三家企业擅自盗用了首尔大学电气信息工程系教授李钟浩和KAIST共同拥有的半导体技术特许权。
成为问题的技术是被称为“FinFET”的超小型晶体管。高集成化半导体通过超小型体现、其性能也不会下降并能提高电力效率的该晶体管，被认为是体现目前正在生产销售的高性能手机的核心技术之一。
该技术已经被多家企业用在自家的产品上了。美国英特尔公司于2011年在自家产品上使用FinFET，2012年正式承认其技术力量并签订了特许合同。KAIST IP的主张是，之后三星电子和格罗方德、台湾的TSMC(积电)也以FinFET为基础制造手机半导体芯片并推出产品，但一直没有支付专利使用费。世界最大的手机半导体企业高通也一直从三星电子和格罗方德那里得到相关产品的供应。
据悉，三星电子目前在包括“Galaxy”系列在内的10多款手机型号上都在使用FinFET。姜代表表示，“虽然FinFET开发当时提出了协约，但三星电子并没有接受，在2013年以后开始使用FinFET制造手机半导体后也全面拒绝支付专利使用费。”对此三星电子表示，“案件正在诉讼中，因此不便单独发表立场。”
宋京恩记者 kyungeun@donga.com
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