반도체기술 유출범들 “출금-체포 등 상황 ‘♥♥♥♥’로 전파”

삼성전자가 세계 최초로 개발한 10nm(나노미터)대 D램 국가핵심기술을 중국으로 빼돌린 전직 삼성전자 임원 등 총 10명이 재판에 넘겨졌다. 이들은 수사망을 피하기 위해 내부 행동 지침와 암호를 공유하며 조직적으로 범행한 것으로 드러났다.

서울중앙지검 정보기술범죄수사부(부장검사 김윤용)는 산업기술보호법 위반(국가 핵심기술 국외유출 등)과 부정경쟁방지법 위반(영업비밀 국외누설 등) 혐의로 삼성전자 부장 출신 김모 씨(58) 등 5명을 구속 기소하고 나머지 5명을 불구속 기소했다고 23일 밝혔다.

김 씨 등은 삼성전자가 5년간 1조6000억 원을 투자해 세계 최초로 개발한 18나노 D램 공정 정보를 2016년부터 불법 취득해 중국 창신메모리(CXMT)에 넘긴 혐의를 받는다. 특히 삼성전자 연구원 출신인 전모 씨(57)는 수백 단계의 공정 정보를 직접 자필로 베껴 유출했으며, CXMT는 이 자료를 토대로 2023년 중국 최초로 10나노대 D램 양산에 성공했다.

이 과정에서 SK하이닉스의 기술도 추가로 유출된 것으로 나타났다. CXMT에서 클린공정을 담당했던 또 다른 김모 씨(56)는 2020년 6월 SK하이닉스의 협력업체를 통해 국가핵심기술이자 영업비밀인 D램 공정 정보를 불법 취득한 혐의로 재판에 넘겨졌다. 검찰은 이번 유출로 인한 삼성전자의 지난해 추정 매출 감소액만 5조 원에 달하며, 향후 국가 경제 전체 피해액은 수십조 원에 이를 것으로 내다봤다.

이들의 범행 수법은 첩보 영화를 방불케 했다. 검찰에 따르면 이들은 위장 회사를 설립하고 주기적으로 사무실을 옮겼으며, “주위에 항상 국가정보원 등이 있다고 생각하며 행동하라”는 지침을 공유했다. 특히 출국금지나 체포 등 위급 상황 발생 시 동료들에게 암호 ‘♥♥♥♥’(하트 4개)를 전파해 상황을 알리도록 대비했다.

검찰 관계자는 “앞으로도 국가경제 및 기술안보를 심각하게 위협하는 산업기술의 국외 유출 범죄에 엄정 대응할 것”이라고 밝혔다.


최미송 cms@donga.com