韓國檢察機關起訴涉嫌將半導體核心技術轉讓給中國的6人

因涉嫌向中國泄露國家核心技術半導體晶片機械化學拋光（CMP）技術等，韓國半導體大企業前任職員等6人被移交審判。

專利廳技術設計特別司法警察（技術警察）和大田地方檢察廳26日表示，以違反《產業技術保護法》及《不正當競爭防止法》的嫌疑拘留起訴了A某（55歲）等3人，並對3人進行了不拘留起訴。

據專利廳透露，A某涉嫌用電腦和業務用手機等連接公司內部網，閱覽半導體相關機密資料，並用個人手機拍攝後泄露給中國企業。據悉，A某提交的資料中包含了很多半導體晶片拋光相關的尖端技術和商業秘密。

據調查，主犯A某在2018年高管晉升中落選後，於2019年6月與中國企業約定壹起進行半導體晶片拋光相關事業，繼續在公司工作，通過聊天工具等幫助中國企業構建生產設備及進行事業管理。

他從2019年9月開始讓企業所屬研究員B某（52歲·拘留）、C某（42歲·拘留）、D某（35歲·不拘留）等3人分別以副社長、組長、組員級別的身份進入中國企業。之後自己也在2020年5月跳槽到了社長級。

技術警察掌握到，除了A某所屬的大企業外，其他2家企業的營業秘密也被泄露。據悉，在遭受損失的3家企業中，規模最小的企業的損失額就達1000億韓元左右。專利廳相關人士表示：“企業不願意透露具體的損失額。”

3家受害企業是制造半導體原材料零部件或制造存儲器半導體的KOSPI、KOSDAQ上市公司，這些企業的市價總額合計達66萬億韓元。


池明勳 mhjee@donga.com