韩国检察机关起诉涉嫌将半导体核心技术转让给中国的6人

因涉嫌向中国泄露国家核心技术半导体晶片机械化学抛光（CMP）技术等，韩国半导体大企业前任职员等6人被移交审判。

专利厅技术设计特别司法警察（技术警察）和大田地方检察厅26日表示，以违反《产业技术保护法》及《不正当竞争防止法》的嫌疑拘留起诉了A某（55岁）等3人，并对3人进行了不拘留起诉。

据专利厅透露，A某涉嫌用电脑和业务用手机等连接公司内部网，阅览半导体相关机密资料，并用个人手机拍摄后泄露给中国企业。据悉，A某提交的资料中包含了很多半导体晶片抛光相关的尖端技术和商业秘密。

据调查，主犯A某在2018年高管晋升中落选后，于2019年6月与中国企业约定一起进行半导体晶片抛光相关事业，继续在公司工作，通过聊天工具等帮助中国企业构建生产设备及进行事业管理。

他从2019年9月开始让企业所属研究员B某（52岁·拘留）、C某（42岁·拘留）、D某（35岁·不拘留）等3人分别以副社长、组长、组员级别的身份进入中国企业。之后自己也在2020年5月跳槽到了社长级。

技术警察掌握到，除了A某所属的大企业外，其他2家企业的营业秘密也被泄露。据悉，在遭受损失的3家企业中，规模最小的企业的损失额就达1000亿韩元左右。专利厅相关人士表示：“企业不愿意透露具体的损失额。”

3家受害企业是制造半导体原材料零部件或制造存储器半导体的KOSPI、KOSDAQ上市公司，这些企业的市价总额合计达66万亿韩元。


池明勳 mhjee@donga.com