반도체 기술 유출 최다… 양형위, 처벌강화 논의

지난해 국내 반도체 기술에 대한 해외 유출 적발 건수가 역대 최다를 기록한 것으로 나타났다. 대법원 양형위원회는 기술 유출 범죄에 대한 처벌을 강화하는 방안을 논의해 올 3월 최종 의결할 방침이다.

8일 한국의희망 양향자 의원실에 따르면 국가정보원이 지난해 적발한 반도체 기술 해외 유출 사건은 13건으로 역대 가장 많았다. 2022년 9건보다 44%(4건) 증가한 수치다. 최근 반도체 해외 기술 유출은 2016∼2018년 사이 매년 1건 적발되다가 2019년 3건, 2020년 6건 등 늘어나는 추세다. 글로벌 반도체 경쟁이 심화되며 국내 기술을 노린 해외 정부 및 기업들의 탈취 시도가 늘고, 한국 수사기관도 적발에 적극적으로 나선 결과라는 분석이다.

지난해 적발된 사건 상당수가 과거 수년 전 발생한 것으로 나타났다. 3일 삼성전자 전 부장 김모 씨가 구속 기소된 사건도 2016년 발생한 것으로 조사됐다. 김 씨는 18나노 D램 공정 정보를 중국 창신메모리(CXMT)에 무단으로 넘긴 혐의를 받는다.

기술 유출은 반도체뿐 아니라 디스플레이, 이차전지, 자동차, 조선 등 한국의 주력 산업 전방위적으로 일어나면서 국가 안보 및 경제에 위협이 되고 있다. 최근 경남경찰청 산업기술안보수사대가 대우조선해양(현 한화오션) 전 직원 2명에 대해 잠수함 설계도면을 빼돌린 혐의로 수사를 진행하고 있는 사실이 확인되기도 했다.

기술 유출이 끊이지 않는 주요 원인 중 하나가 ‘기술 유출로 얻는 이득이 적발 시 손실보다 훨씬 크다’는 점이다. 대법원 양형위원회는 8일 정기회의를 열고 기술 유출 범죄와 관련해 법원 판결의 지침이 되는 양형 기준 상향 범위 등을 논의했다. 국가핵심기술 유출에 대한 법정형은 3년 이상 징역이지만, 양형 기준은 1년∼3년 6개월로 법정형보다 낮다. 이에 따라 산업통상자원부는 양형 기준을 최소 3년 6개월∼5년으로 상향해야 한다는 의견을 양형위에 제시한 상황이다.

양 의원은 “기술 유출은 계획적이고 비밀스럽게 벌이는 범행인 만큼 지금 드러난 사건은 빙산의 일각일 것”이라며 “유출자에 대해 엄격히 처벌하고 사전 예방을 위한 시스템도 철저하게 갖춰야 한다”고 말했다.


박현익 기자 beepark@donga.com