반도체 핵심기술 中에 유출 혐의… 前 삼성전자 부장 징역20년 구형

동아DB

검찰이 우리나라 반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 전직 삼성전자 부장에게 1심에서 징역 20년의 중형을 구형했다.

12일 서울중앙지법 형사합의25부(부장판사 지귀연) 심리로 열린 결심공판에서 검찰은 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등의 혐의를 받는 김모 씨에게 징역 20년을 선고해 달라고 요청했다. 함께 재판에 넘겨진 전 협력업체 직원 방모 씨에게는 징역 10년을 구형했다.

김 씨는 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 반도체 제조업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)의 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 올해 1월 기소됐다. CXMT는 중국 유일의 D램 생산업체로, 검찰은 CXMT가 해당 삼성전자 정보를 취득해 기술장벽을 뛰어넘었다고 보고 있다. 검찰은 “기술 유출 범죄는 국가와 피해 기업의 기술적 기반을 흔들 수 있는 중대 범죄”라며 “동종업체가 인재 영입을 빙자해 우리나라 기업이 각고의 노력으로 쌓아온 것을 손쉽게 탈취하는 것을 방치해선 안 된다”고 구형 이유를 설명했다.

최후진술에서 김 씨는 “일반 기술이라 생각했고 투자자들에게 홍보 자료로 사용하기로 해 자료를 다 함께 준비한 것”이라며 “이런 일이 없었으면 마음 편하게 살았을 후배들과 가족들에게 진심으로 미안하다”고 말했다. 선고는 내년 1월 22일 내려질 예정이다.



김태언 기자 beborn@donga.com