이재용 삼성전자 부회장이 지난 1월 2일 오후 화성사업장 내에 있는 반도체연구소를 찾아 DS부문 사장단과 함께 최신 반도체 기술 개발현황 등을 논의했다. (삼성전자 제공)
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이재용 삼성전자 부회장이 25일 수원 삼성종합기술원을 방문해 반도체·디스플레이 등 차세대 신기술 개발 현황을 점검했다. 올들어 6번째 현장경영으로 평균 한달에 2회씩 국내외 사업장으로 직접 달려간 것이다.
신종 코로나바이러스 감염증(코로나19) 사태로 글로벌 경제위기 우려가 나오는 상황이지만 총수로서 위기 극복을 위한 책임경영에 보다 적극적으로 나서는 것으로 해석된다.
삼성전자는 이 부회장이 이날 오전 수원 삼성종합기술원을 방문해 신기술 연구개발(R&D) 현황을 보고받고 차세대 미래기술 전략을 점검했다고 밝혔다. 이 자리에서 이 부회장은 “어렵고 힘든 때일수록 미래를 철저히 준비해야 한다”면서 차세대 먹거리 발굴을 위한 R&D 중요성을 강조했다.
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올초부터 보면 지난 1월 2일엔 화성사업장 반도체연구소를 살펴봤으며, 1월 26일(현지시간)엔 브라질의 TV, 스마트폰 생산법인을 점검하기도 했다.
2월에는 화성사업장에 구축된 업계 최초 반도체 EUV(극자외선) 공정 전용 생산라인인 ‘V1 라인’을 둘러봤다. 올해에만 1~3월 동안 총 6번이나 현장경영에 나서 월 2회꼴로 국내외 사업장을 방문한 셈이다.
이 부회장은 2018년 2월 삼성전자가 V1 라인 투자를 시작한 이후 꾸준히 EUV 공정과 차세대 반도체 기술에 관심을 보여왔다. 창립 반세기를 넘은 삼성전자를 뒷받침한 ‘초격차’ 중심의 기술 혁신이 위기 탈출을 위한 해법이라는 의지가 담긴 것이다.
실제 이 부회장은 지난 19일 아산사업장 디스플레이 생산라인을 방문한 자리에서 “예상치 못한 변수로 힘들겠지만 잠시도 멈추면 안 된다”면서 “위기 이후를 내다보는 지혜가 필요하며 흔들림 없이 도전을 이어가자”고 밝혔다.
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삼성전자는 지난해 4월 세계 최초 EUV 7나노 반도체 제품 출하를 시작으로 올해는 3나노 파운드리 기술도 선보였다. 아울러 이날 삼성전자는 EUV 공정을 D램 생산에 최초 적용해 본격 양산에도 나선다고 밝혔다. 이미 1세대 10나노 D램 모듈 생산에 적용한 EUV 공정은 올 하반기 개발을 거쳐 내년에는 4세대(1a) 10나노 D램 양산에도 도입될 예정이다.
삼성전자 관계자는 “현재 EUV 공정으로 4세대(1a) 10나노급 D램 양산 기술을 개발하고 있으며 향후 품질과 수율도 기존 공정 제품보다 향상시킬 예정”이라고 말했다.
(서울=뉴스1)