[CEO&]블랭크마스크 첫 국산화… 하이엔드 시장 공략

동아일보 입력 2014-04-30 03:00수정 2014-04-30 03:00
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㈜에스앤에스텍
FPD용 차세대 PSM 제품 양산에 성공, 수익개선 기대
측정장비 모니터링
“반도체 및 LCD 재료 분야에서 고부가가치를 지닌 하이엔드 제품의 비중을 확대해 세계 최고의 블랭크마스크 업체로 도약할 것입니다.”

남기수 ㈜에스앤에스텍(www.snstech.co.kr) 대표(62)는 “수입의존도가 높았던 블랭크마스크를 국산화한 성과에 만족하지 않고 세계로 진출, 글로벌 부품소재 전문기업으로 성장할 것”이라고 힘주어 말했다.

남기수 대표
대구 달서구에 위치한 ㈜에스앤에스텍은 2001년 설립돼 전량 수입에 의존하던 블랭크마스크를 국산화해 국내 반도체·LCD 업계의 원가 부담을 줄이고 산업 경쟁력 강화에 일조해 왔다. 2002년 반도체 블랭크마스크에 이어 2004년 FPD(Flat Panel Display) 블랭크마스크를 잇달아 개발하며 시장에서 일본 업체의 과점 구도를 무너뜨렸다. ‘블랭크마스크’란 반도체 및 평판디스플레이 공정재료인 포토마스크의 원재료다. 석영 유리 기판에 얇은 크롬 막과 감광막을 입히는 방식으로 생산한다. 소수의 일본 업체들이 30여 년간 시장을 독점하고 있었지만, ㈜에스앤에스텍이 수입대체 효과를 거둔 것은 물론 대만, 중국 등 해외로 수출까지 하고 있다. 이 회사는 최근 국내 최초로 FPD용 PSM(Phase Shift Mask·위상변이 마스크) 양산에 성공하면서 고부가 하이엔드 제품군으로 보폭을 넓혔다. PSM은 기존의 바이너리(Binary) 마스크보다 평균단가가 4∼5배가량 높아 수익성 개선이 가능할 것으로 보인다.


㈜에스앤에스텍은 KrF(불화크립톤)/ArF(불화아르곤) PSM을 포함해 32nm(나노미터)급에서 14nm급까지 사용되는 하드마스크용 블랭크마스크 양산기술을 확보했다.

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㈜에스앤에스텍은 전체 임직원 165명 중 22%를 차지하는 연구 인력과 매출액 대비 연간 6% 이상의 연구개발 투자를 통해 향후 EUV용 블랭크마스크 등 고부가 하이엔드 신제품 개발에 나설 계획이다. EUV용 블랭크마스크는 13.5nm의 노광 파장을 이용해 미세회로 구현이 가능한 고해상도용 블랭크마스크로 10nm 이하에서 사용되는 차세대 제품이다. 수익성이 높은 반도체용 고사양급 블랭크마스크를 통해 수익성도 대폭 개선될 것으로 보인다. 지난해 매출은 496억 원, 올해는 600억 원을 목표로 하고 있다. 남 대표는 “LCD, OLED 등 고해상도 디스플레이 시장이 개화됨에 따라 FPD용 PSM 블랭크마스크가 회사의 매출 증대에 기여하는 새로운 성장 동력이 될 것”이라고 강조했다.

한편, ㈜에스앤에스텍은 지난해 대구시로부터 ‘월드스타기업’으로 선정됐으며, 남 대표는 반도체·디스플레이 산업 발전에 기여한 공로로 대통령 표창을 받았다.

김민식 기자 mskim@donga.com

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