“日 포토레지스트 항공편 도착, 에칭가스가 더욱 시급”

  • 뉴스1
  • 입력 2019년 8월 22일 12시 27분


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일본 정부가 한국을 반도체 수출 규제에 이어 ‘화이트리스트’(수출관리 우대조치 대상국) 명단에서 제외하기로 결정한 2일 오후 경기도 용인시 삼성전자 기흥사업장 앞으로 적색 신호등 불이 보이고 있다. © News1
일본 정부가 한국을 반도체 수출 규제에 이어 ‘화이트리스트’(수출관리 우대조치 대상국) 명단에서 제외하기로 결정한 2일 오후 경기도 용인시 삼성전자 기흥사업장 앞으로 적색 신호등 불이 보이고 있다. © News1
일본 정부가 수출규제 품목으로 지정한 반도체 핵심소재 ‘극자외선(EUV)용 포토레지스트(photoresist)’가 전날 항공편을 통해 국내로 들어왔다. 이달 두 차례에 걸쳐 허가를 한 데 이어진 조치다.

포토레지스트는 국내로 반입이 됐지만 또 다른 반도체 공정 핵심 소재인 에칭가스는 수출허가가 나지 않고 있어 일본의 이번 조치가 ‘규제 완화’로 보기에는 어렵다는 관측이 나온다.

22일 업계에 따르면 일본산 포토레지스트가 전날 항공편을 통해 국내로 반입됐다. 지난 7일과 19일 일본 경제산업성이 자국 기업의 포토레지스트 수출을 허가한 데 이어 실제로 핵심소재가 국내로 운송된 것이다.

업계관계자는 “일본산 포토레지스트가 어저께 항공편으로 들어온 것은 맞다”면서 “일본 정부가 19일에 허가한 물량이 들어온 것”이라고 밝혔다.

국내로 들어온 포토레지트는 EUV(극자외선) 공정용으로 수입을 한 기업은 삼성전자로 알려졌다.

반도체업계 관계자는 “이번에 들어오는 포토레지스트는 일본이 수출규제 품목으로 지정한 EUV용 포토레지스트”라고 말했다.

감광제로도 불리는 포토레지스트는 반도체 원재료인 웨이퍼 표면에 회로 패턴을 그리는 필수 소재다. 특히 EUV용 포토레지스트는 반도체 산업의 미세화 공정에 필수적이다.

현재 10나노대에서 생산되는 반도체는 EUV 기술을 통해서 이론적으로 5나노대의 미세 공정이 가능하다. 또한 EUV 공정을 활용해 7나노 이하 반도체를 생산하는 기업은 대만의 TSMC와 삼성전자뿐이다.

두 차례에 걸쳐 일본산 포토레지스트가 반입됐지만, 규제 완화라고 보기에는 어렵다는 것이 업계의 설명이다.

한 업계 관계자는 “(이번 일본의 조치가)안심할만한 것은 아니고 여전히 기업에 불확실성이 남아 있고 이번 조치가 철회가 돼야 한다”고 했다.

또 다른 반도체 업계 관계자는 “에칭가스도 수입 신청을 했는데 허가가 안나고 있는 것으로 안다”면서 “업계로서는 에칭가스 수입이 중요하다”고 우려를 나타냈다.

에칭가스는 반도체 생산 공정에서 웨이퍼 식각(에칭)을 통해 회로의 패턴을 형성하는 공정과 웨이퍼를 세정하는 공정에 사용되는 핵심 품목이다.

세정공정에는 비교적 낮은 순도의 에칭가스가 사용이 가능하지만 식각공정의 경우 고순도의 에칭가스가 필요하다.

에칭가스의 경우 일본 스텔라와 모리타가 전세계 생산량의 90%가량을 차지한다. 특히 고순도 에칭가스의 경우 기술력이 높은 일본 기업이 독보적인 것으로 알려졌다.

(서울=뉴스1)
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