美国企业杜邦将在韩国建设“光刻胶”生产工厂

全球化学材料企业美国杜邦公司(DuPont)决定在忠清南道天安设立用于制造半导体的光刻胶(光致抗蚀剂，photoresist)工厂。光刻胶是日本作为出口限制品目的三大核心材料之一。9日，韩国产业通商资源部表示：“8日(当地时间)在美国加利福尼亚硅谷，杜邦公司总经理约翰•坎普确定了韩国投资计划，并向KOTRA提交了投资申报书。”杜邦计划到明年为止，投资325亿韩元在天安建设极紫外线(EUV)用光刻胶工厂，进行研究开发(R&D)和生产。材料业界认为，从完成开发到实现商用化预计需要3~5年的时间。

极紫外线用光刻胶是半导体超精细工序的核心材料，在半导体晶片上画电路形状时会用到。日本的信越、JSR等企业占据着世界市场的90%以上。在2018年进口到韩国的3.2069亿美元(约3700亿韩元)中，日本产产品占93.2%，对日依赖性很大。自日本政府采取限制出口措施以后，国内企业只能通过比利时和日本的合作法人迂回进口或靠日本政府有限许可的物量苦苦支撑。去年12月，日本放宽了对光刻胶的出口许可，但有评价称，这还远远不够。杜邦正式投产后，三星和SK海力士等国内企业有望实现供应商多元化。


崔惠? herstory@donga.com